二手机器相关信息

曝光方式

直描式

基板尺寸

334×334～534×622mm

曝光光源

Laser Diode / 405nm

解像性能

L/S = 12/12μm

对位精度

±10μm

流向

右→左（R流向） ※单面机

曝光方式

真空密着方式

基板尺寸

250×300～510×610mm

曝光光源

 2灯式/5kW超高压水银灯

解像性能

SRO = Φ50 μm

对位精度

±5μm

流向

右→左（R流向）

曝光方式

真空密着方式

基板尺寸

250×300～535×625mm

曝光光源

1灯式/5kW超高压水银灯

解像性能

L/S = 40/40μm

对位精度

±10μm

流向

左→右（L流向）

曝光方式

加压密着方式

基板尺寸

250×300～535×625mm

曝光光源

1灯式/5kW超高压水银灯

解像性能

L/S = 40/40μm

对位精度

±10μm

流向

①：左→右（Ｌ流向）
②：左→右（Ｌ流向）

曝光方式

加压密着方式

基板尺寸

250×300～535×625mm

曝光光源

1灯式/5kW超高压水银灯

解像性能

L/S = 40/40μm

对位精度

±10μm

流向

左→右（Ｌ流向）

曝光方式

真空密着方式

基板尺寸

250×300～535×625mm

曝光光源

2灯式/10kW金属卤化物灯

解像性能

φ100μm

对位精度

±10μm

流向

左→右（Ｌ流向）

曝光方式

真空密着方式

基板尺寸

254×305～559×635mm

曝光光源

2灯式/10kW金属卤化物灯

解像性能

L/S = 75/75μm

对位精度

±10μm/±5μm

流向

①：右→左（Ｒ流向）
②：左→右（Ｌ流向）

曝光方式

真空密着方式

基板尺寸

250mm或500mm

曝光光源

2灯式/5KW超高压水银灯

解像性能

L/S = 12/12μm

对位精度

±10μm

流向

①：右→左（Ｒ流向）
②：左→右（Ｌ流向）

曝光方式

真空密着方式

基板尺寸

 250×330～535×635mm

曝光光源

5KW超高压水银灯

解像性能

L/S = 75/75μm

对位精度

±10μm

流向

右→左（Ｒ流向）

曝光方式

真空密着方式

基板尺寸

 250×250～535×635mm

曝光光源

5KW超高压水银灯

解像性能

L/S = 75/75μm

对位精度

±10μm

流向

―

曝光方式

直描式

基板尺寸

334×334～551×640mm

曝光光源

镭射二极管/ 375+405nm

解像性能

L/S ＝ 15/15 μm

对位精度

±7.5μm

流向

①：右→左（R流向）
②：左→右（L流向）