基板やマスクの伸縮の影響を最小限に抑えるよう、露光エリア以外をシャッターで遮光し、2分割・3分割・4分割6分割露光を行います。アライメントは分割エリア面毎に行いますので、オーバーレイヤー精度が向上します。また、従来の露光装置と同様に一括露光も可能です。

分割露光（分割シャッター機能）とは

基板の搬送方式には、当社独自の吸着ハンド搬送を採用し、高速かつ極薄板基板（基材厚：0.025mmt）の搬送が可能です。また、ソルダーレジスト用モデルには、非接触型の吸着機構を追加し、基板と吸着パッドの接触部分を必要最低限の基板端のみに留めています。

露光室内にクリーンローラーと集塵ノズルを標準搭載し、設定枚数毎にマスクとプラテンのクリーニングを自動で行います。これにより、基板が持ち込むゴミの影響を抑制できるだけでなく、作業者によるクリーニング作業時間の軽減にもつながります。

各種消耗品の交換時期、メンテナンス箇所のメンテナンス期限を予め設定しておく事で、装置稼動中に警告を表示し、作業者に注意を促します。

当社独自のU−コンタクト方式の採用により、高速かつ、均一で安定した密着が可能となりました。
また、この方式により完全スペーサーレスを実現したほか、パターンニング用モデルでは基板サイズを限定することで、更に高解像度が可能となりました。

露光装置と当社のサポートセンターを、インターネットで接続可能な構造としました。これにより、タッチパネル画面及び、画像処理画面等を互いに確認しながらの、より迅速かつ、わかり易い リアルタイムサポートが可能です。

ソルダーレジスト用露光装置向けとして、新たなランプシステム（光源）を搭載可能としました。
MLSは、従来の光源（5Kw平行光）に比べ、約1.5倍換算の高エネルギーで露光時間を短縮できるほか、ランプ交換が容易かつ、寿命が2000時間と長寿命であることから、ランニングコストの大幅低減を実現しました。