• 露光ステージ上で位置合わせを行い、さらに露光直前での再確認を行うことにより、露光位置精度の信頼性を高めています。また、画像処理に形状サーチ方式を採用したことにより、マークの認識能力が向上しています。
• さらに、従来のマーク按分方式に加え、新たにMMD（マーク間距離最小法）方式での位置合わせも可能としました。

露光ステージは継ぎ目の無い1枚テーブルの採用により、フレキシブル基板など薄板基板の安定した搬送・密着・露光が可能です。

反転機部分にクリーンローラーユニットを搭載できるスペースを設け、基板クリーニングが可能な構造とし、さらに新開発の自動マスク・プラテンクリーニング機構を標準搭載することで、ゴミによる不良の発生を抑制しました。

基板の搬送は真空密着によるハンド搬送です。ハンドの駆動は高速・高精細でクリーンな搬送を可能にしています。

従来からの加圧密着方式に加えて、今回新たに真空密着方式でもスペーサーレスを実現しました。（但し、一部サイズを除く）

露光装置と当社のサポートセンターを、インターネットで接続可能な構造としました。これにより、タッチパネル画面及び、画像処理画面等を互いに確認しながらの、より迅速かつ、わかり易いリアルタイムサポートが可能です。