• 將基板及底片漲縮的影響降至最低、將曝光區域以外以SHUTTER遮蔽、進行2分割・3分割・4分割・6分割之曝光。
• 因為在每一曝光面都進行對位、可提升OVERLAYER精度。此外亦可作原有設備的一次曝光、可依基板要求精度選擇及使用。
• 由於底片尺寸較大，因此對每個最小電路板的圖樣序列號都可進行曝光。而且，與採用相同的分割曝光方式的步進曝光機相比，價格便宜。

6分割曝光時、在基板全體粗對位之後、在每一分割區域（1～6順序）進行對位・曝光。